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镀铬添加剂系列
产品产品
特性及用途
溶液组成及操作条件
F-53铬雾抑制剂

1.F-53是一种全氟表面活性剂,对抑制铬酸雾有良好效果。
2.也可以作为其他酸、碱性镀槽或电解槽的抑雾剂。

镀铬液中加入量为0.02g/L,用沸水溶解至透明后加入。消耗量:5克/KAH


CR-503铬雾抑制剂

1.单一粉末,对抑制铬酸雾有良好效果。
2.添加量少,使用成本低。

镀铬液中加入量为0.06—0.1g/L,用沸水溶解至透明后加入。消耗量:10—25克/KAH

CR-501铬雾抑制剂

1.Cr-501是一种全氟表面活性剂,对抑制铬酸雾 有良好效果。
2.也可作为其他酸、碱性镀槽或电解槽的抑雾剂。
3.添加量少,使用成本低。

根据槽液表面的泡沫情况及抑雾效果适量补充CR-501铬雾抑制剂。每次添加量小于0.5ml/L。本产品与其它铬雾抑制剂兼容。


CR-52硬铬催化剂

1. 阴极电流效率高达到22-26%,是传统标准镀铬的工艺的2-3倍,节约能源.

2.使用电流密度宽广,30-90A/dm2均可,沉积速度快。

铬酐:250g/L

硫酸:2.7 g/L

CR-52硬铬催化剂:15-20ml/L


CR-642高速装饰镀铬添加剂

1.沉积速度快,阴极电流效率高,可在较高电流密 度下操作。
2.操作浓度较低,光亮范围较宽,具优良之覆盖能 力及分散能力,且杂质容忍度高。

铬酐:150-260g/L

硫酸:0.75-1.3 g/L

    (铬酐/硫酸=200:1)

三价铬:0.5-3 g/L

CR-642:5-10毫升/升


CR-12高效自调镀铬工艺

1.有极佳的分散能力和深镀能力。
2.阴极电流效率高,可达25-28%。

CR-1添加剂:10-20ml/L

CR-2添加剂:10-20ml/l


CR-202高效镀铬添加剂

1.适合于各种镀铬工艺,使用方便。
2.提高镀液的深镀能力,增加镀层光泽。

铬酐:150-300g/L

硫酸:0.5-2g/L

三价铬:1-5g/L

CR-202:0.5-1.5g/L


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